國產EDA新突破 東方晶源推出計算光刻云方案
發布時間：2022-07-19發布人：
國產EDA新突破 東方晶源推出計算光刻云方案
東方晶源微電子科技（北京）有限公司（以下簡稱“東方晶源”）發布首款基于云端的EDA計算光刻平臺——AeroHPO全流程協同優化系統，成為國產EDA和一體化良率解決方案“云”部署先行者。該系統沿用東方晶源自主研發、全球率先工程應用的“全芯片反向光刻掩模優化（ILT）”技術，同時依托于公有云平臺，可為客戶提供28nm及以下技術節點的制程建模、基于ILT的掩模優化、設計規則與掩模規則檢查（DRC/MRC）、光源掩模聯合優化（IRO）、嚴格物理光刻仿真、DPT 版圖拆分及光刻性能檢查（LRC）等全產品線功能與服務。AeroHPO是東方晶源現有基于私有計算集群的計算光刻解決方案的有力補充，該系統在易獲得性和靈活的收費方式等方面具有顯著優勢，可為高校和科研院所等提供便捷的EDA和計算光刻教學與科研平臺，同時也為中小型芯片設計與制造企業提供更為經濟和靈活的解決方案。
東方晶源的AeroHPO全流程協同優化系統，不僅解決了掩模優化設計問題，而且具有上游EDA工具以及下游缺陷分析和良率控制系統的可擴展性和兼容性，提供了從芯片設計到制造一體化的DTCO綜合平臺。截至目前，該系統已經在合作伙伴北京超級云、華為云和騰訊云等公有云上完成測試。AeroHPO的上線，將進一步完善國產EDA解決方案，加速國產替代，并實現超越。
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