氯碘羥喹乳膏

哈西奈德乳膏

氯碘羥喹。

本品主要成份為哈西奈德

天津金耀藥業有限公司

遂成藥業股份有限公司

國藥準字H10940104

國藥準字H20057390

適用于化膿性皮膚病、膿胞瘡、毛囊炎、傳染性濕疹樣皮炎、手癬﹑足癬﹑體癬﹑股癬﹑急性濕疹樣皮炎、真菌、細菌混合感染的皮膚病。

適用于接觸性濕疹、異位性皮炎、神經性皮炎、面積不大的銀屑病、硬化性萎縮性苔蘚、扁平苔蘚、盤狀紅斑性狼瘡、脂溢性皮炎(非面部)肥厚性瘢痕。

將膏體均勻涂于患處，每日2～3次。

外涂患處，每日早晚各一次。

偶有輕度刺激，紅斑，灼痛感。

1.對該藥過敏者。2.由細菌、真菌、病毒和寄生蟲引起的原發性皮膚病變。3.潰瘍性病變。痤瘡、酒渣鼻。4.眼瞼部用藥(有引起青光眼的危險)。5.滲出性皮膚病。

適用于化膿性皮膚病、膿胞瘡、毛囊炎、傳染性濕疹樣皮炎、手癬﹑足癬﹑體癬﹑股癬﹑急性濕疹樣皮炎、真菌、細菌混合感染的皮膚病。

適用于接觸性濕疹、異位性皮炎、神經性皮炎、面積不大的銀屑病、硬化性萎縮性苔蘚、扁平苔蘚、盤狀紅斑性狼瘡、脂溢性皮炎(非面部)肥厚性瘢痕。

少數患者涂藥部位的皮膚發生燒灼感、刺痛、暫時性瘙癢，長期應用可發生皮膚毛細血管擴張、皮膚萎縮、萎縮紋皮膚萎縮后繼發紫癜、瘀斑、皮膚脆弱、多毛癥、毛囊炎、粟丘疹、皮膚脫色、延緩潰瘍愈合，封包法在皮膚皺褶部位容易繼發真菌感染。經皮膚吸收多時，可發生全身性不良反應。

應清潔皮損后涂藥。

大面積大量用藥或封包方式可使經皮吸收多，可發生全身反應，尤其是低齡兒童和嬰幼兒，出現可逆行柯興氏征及生長遲緩，突然停藥可出現急性腎上腺皮質功能不全。出現局部不耐受現象，應停藥并尋找原因。警惕留在皮膚皺褶部位和尿布中的藥物可吸收入體內。 請仔細閱讀說明書并遵醫囑使用。